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业界 | 中国芯片研发新突破:全球首台超分辨光刻装备研制成功

2018-11-30 13:48 大数据文摘

大数据文摘出品

消息来源:中国军网


中国芯片终于有了一些好消息!


11月29日,中科院光电技术研究所宣布,其承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。


这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。


据介绍,中科院光电所超分辨光刻装备项目组经过近7年艰苦攻关,突破了多项关键技术,完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米,结合多重曝光技术后,可用于制造10纳米级别的芯片!



中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示,该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过了国外相关知识产权壁垒。



据了解,该光刻机制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学太赫兹科学技术研究中心、四川大学华西医院、中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室等多家科研院所和高校的重大研究任务中取得应用。


光刻机为什么这么重要


毫无疑问,这是世界级的技术突破,因为随着制作工艺的越来越精良,着某种意义上,芯片良品率取决定芯片占有率。而芯片良品率取决于晶圆厂整体水平,但加工精度完全取决于核心设备,即“光刻机”。


之前,我国在这一领域相对落后。它采用类似照片冲印的技术,把一张巨大的电路设计图缩印到小小的芯片上,光刻精度越高,芯片体积可以越小,性能也可以越高。但由于光波的衍射效应,光刻精度终将面临极限。


光刻机生产商中,荷兰阿斯麦公司(ASML)工艺最强大,但是产量不高高,无论是台积电、三星,还是英特尔,谁先买到阿斯麦的光刻机,谁就能率先具备7nm工艺。


       


阿斯麦是唯一的高端光刻机生产商,每台售价至少1亿美金,2017年只生产了12台,2018年预计能产24台,这些都已经被台积电三星英特尔抢完了,2019年预测有40台,其中一台是给咱们的中芯国际。


之所以,光刻机不能进口,是因为英特尔有阿斯麦15%的股份,台积电有5%,三星有3%,有些时候吧,钱不是万能的。第二,美帝整了个《瓦森纳协定》,敏感技术不能卖,中国、朝鲜、伊朗、利比亚均是被限制国家。


之前,2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功,后来中国开始攻关65nm光刻机,2015年美国允许65nm以上设备销售给中国。


相关报道:

http://www.sohu.com/a/278602824_628598

http://www.81.cn/jwgz/2018-11/29/content_9360318.htm

https://www.huxiu.com/article/266816.html


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